国盛证券：国产高端光刻机亟待打破 产业链齐发力加快代替

  智通财经APP得悉，国盛证券发布研报称，国产光刻机空间国内需求大于国产供给，据智研咨询数据，2023年我国光刻机产值为124台，需求量为727台，供需联系严峻不匹配，本乡厂商供给才能有待加强。上海微电子是国内现在唯一前道晶圆制作光刻机整机制作商，光刻机产品主要对标CANON。公司自主研制600系列前道制作光刻机已完成90nm工艺芯片的量产。但高端光刻机方面仍处于研制阶段，没有完成大规模量产。在地舆政治学危险的继续缩紧下，国产光刻机产业链齐发力，上海微电子、国科精细、科益虹源、茂莱光学等厂商加快进行有关组件研制，代替空间宽广。

  光刻工艺是芯片制作流程中技能难度最大、本钱最高、周期最长的环节，直接决议了芯片的最小线宽，界说了半导体器材的特征尺度，先进的技能节点的芯片制作需求60-90步光刻工艺，光刻本钱占比约为30%，消耗时刻占比约为40-50%。光刻中的中心东西抒发光掩膜、光刻机和光刻胶，分辨率、套刻精度、产能为光刻工艺中的要害参数，分辨率是指光刻机能明晰地在晶圆上投影出的最小特征尺度，可通过缩短波长、进步数值孔径、下降K1工艺因子进步。

  套刻精度是曝光显影后存留在光刻胶上的图形(当时层)与晶圆上已有图形(参阅层)对按时能忍受的最大差错，可通过设备优化及资料与工艺协同提高，产能为衡量光刻机出产功率的中心目标，可通过技能改善。

  光刻机是芯片制作的中心设备，光源体系、照明体系、曝光物镜体系为中心组件，光源为光刻供给能量，不同制程和芯片类型需匹配特定光源，常见光源抒发汞灯、准分子激光和极紫外光。当时先进光刻机光源供货商为ASML、日本Gigaphoton公司。照明体系对光源宣布的激光进行扩束，保证光照的均匀性和强度，一起供给特定的照明形式以习惯不一样的工艺需求。投影物镜为精准成像的要害，将通过掩模版图画后的衍射光搜集并聚集至晶圆外表的光刻胶上，全球来看，蔡司为投影物镜镜头龙头供货商，ASML镜头多由蔡司供给。

  ASML、Nikon、Canon三大供货商高度独占全球光刻机自卖自夸，依据中商情报网数据，2024年全球光刻机自卖自夸规模达315亿美元，ASML在高端光刻机肯定抢先，佳能聚集中低端光刻机范畴。依据ASML2024年财报数据，各类光刻机收入占比中，EUV机型贡献了39.4%，ArFi机型占比45.8%，从产品单价来看，EUV((NXE)为1.87亿欧元，Arfi产品ASP为0.75亿欧元。